Electrochemical Epitaxy and XMCD Study of Co-Ni Alloy Film
Electrochemical Epitaxy and XMCD Study of Co-Ni Alloy Film
复制标题
Co-Ni合金薄膜的电化学外延及XMCD研究
DOI：
10.1016/s1872-1508(07)60061-8
复制
发表时间：
2007-08
影响因子：
10.9
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
登录
查看更多内容
影响因子：
10.9
作者：
Wu Gang;Li Ning;Zhou De-rui;Xu Bo-qing
通讯作者：
Wu Gang;Li Ning;Zhou De-rui;Xu Bo-qing
影响因子：
10.9
作者：
M. Wuttig;Xiangdong Liu
通讯作者：
M. Wuttig;Xiangdong Liu
影响因子：
--
作者：
郭玉献;王劼;李红红;徐彭寿;蔡建旺
通讯作者：
郭玉献;王劼;李红红;徐彭寿;蔡建旺
影响因子：
3.7
作者：
Xu, YB;Kernohan, ETM;Bland, JAC
通讯作者：
Bland, JAC
影响因子：
3.7
作者：
T. J. Regan;H. Ohldag;C. Stamm;F. Nolting;J. Lüning;J. Stöhr;R. White
通讯作者：
T. J. Regan;H. Ohldag;C. Stamm;F. Nolting;J. Lüning;J. Stöhr;R. White