プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例
プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例
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了解反应机制、过程控制和薄膜沉积示例，以优化等离子体 CVD 中的薄膜沉积条件
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
久保優
中科院分区：
文献类型：
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作者：
白藤立;松田彰久;市川幸美;林康明;加藤俊顕;鈴木弘郎;金子俊郎;篠原正典;猪原武士;柳生義人;大島多美子;川崎仁晴;山田英明;尾関和秀;山内智;髙洋志;村上彰一;東和文;寅丸雅光;牟田浩司;小島洋治;島田学;久保優
