S.Aoqui,T.Ohshima,T.Ikegami,K.Ebihara: "Preparation of the CN_x thin films using NO ambient gas by pulsed laser process"Proceedings of Plasma Science Symposium 2001/The 18^<th> Symposium on Plasma Processing. 623-624 (2001)
S.Aoqui,T.Ohshima,T.Ikegami,K.Ebihara: "Preparation of the CN_x thin films using NO ambient gas by pulsed laser process"Proceedings of Plasma Science Symposium 2001/The 18^<th> Symposium on Plasma Processing. 623-624 (2001)
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S.Aoqui、T.Ohshima、T.Ikegami、K.Ebihara：“通过脉冲激光工艺使用 NO 环境气体制备 CN_x 薄膜”2001 年等离子体科学研讨会论文集/第 18 届等离子体加工研讨会论文集。
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