固定砥粒を用いたGaNウエハの高能率一貫加工プロセスの構築－ラップ加工で導入された加工変質層のプラズマ表面改質－
固定砥粒を用いたGaNウエハの高能率一貫加工プロセスの構築－ラップ加工で導入された加工変質層のプラズマ表面改質－
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使用固定磨粒构建高效的 GaN 晶片集成加工工艺 - 在研磨加工中引入工艺影响层的等离子表面改性 -
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大西雄也，北出隼人，陶通，永橋潤司，孫栄硯，有馬健太，山村和也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kazuya Z. Suzuki;Shigemi Mizukami;大西雄也，北出隼人，陶通，永橋潤司，孫栄硯，有馬健太，山村和也
