Step Instabilities on Si(111) Vicinal Face near 1×1〓7×7 Transition Temperature during Sublimation
Step Instabilities on Si(111) Vicinal Face near 1×1〓7×7 Transition Temperature during Sublimation
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升华过程中 1×1〓7×7 转变温度附近 Si(111) 邻面的阶跃不稳定性
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masahide Sato
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kenta Ikawa;Masahide Sato
