マルチスライスＸ線タイコグラフィ：埋もれた界面のナノイメージングに向けて
マルチスライスＸ線タイコグラフィ：埋もれた界面のナノイメージングに向けて
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多层 X 射线叠层成像：面向埋藏界面的纳米成像
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高橋幸生
中科院分区：
文献类型：
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作者：
下村啓;広瀬真;東野嵩也;高橋幸生;高橋幸生
