電子線ホログラフィーによる半導体内部ポテンシャル分布の精密計測

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利用电子束全息术精确测量半导体内部电位分布

DOI:
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发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
穴田智史
穴田智史
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
A. Kurenkov;S. DuttaGupta;C. Zhang;S. Fukami;Y. Horio;and H. Ohno;権裕煥,鶴峯義久,本仲君子,三好誠司,松原崇充;前田凌佑,奥田貴史,引原隆士;穴田智史

文献摘要

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