窒素組成制御による 金属性HfN/絶縁性HfNx/Ge MIS構造の研究

窒素組成制御による 金属性HfN/絶縁性HfNx/Ge MIS構造の研究
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控制氮成分研究金属HfN/绝缘HfNx/Ge MIS结构

DOI:
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发表时间:
2013
期刊:
第18回ゲートスタック研究会
影响因子:
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通讯作者:
前田 辰郎
前田 辰郎
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
三浦 脩;田中 正俊;安田 哲二;前田 辰郎

文献摘要

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