MBE growth of atomically-thin chromium telluride films with robust out-of-plane magnetization
MBE growth of atomically-thin chromium telluride films with robust out-of-plane magnetization
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具有强大面外磁化强度的原子级薄碲化铬薄膜的 MBE 生长
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yoshihiro Iwasa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yue Wang;Masaki Nakano;Satoshi Yoshida;Hideki Matsuoka;Kyoko Ishizaka;Yoshihiro Iwasa
