Fabricating High Quality YIG Thin Film by Mist CVD under Open-Air Atmospheric Pressure
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复制标题
露天常压下雾气 CVD 制备高质量 YIG 薄膜
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Kawaharamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
L. Liu;Y. Suwa;Y. Nakasone;M. Nishi;E.K.C. Pradeep;T. Kawaharamura
