表面改質処理を用いない高分子材料中への簡易的かつ汎用的シリカ均一微細分散技術
表面改質処理を用いない高分子材料中への簡易的かつ汎用的シリカ均一微細分散技術
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简单通用的二氧化硅在高分子材料中均匀精细分散技术，无需表面改性处理
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
棚橋満
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Aoki;H. Habazaki and T. Kunitake;青木芳尚;小川幸太;青木芳尚;棚橋満
