Y.Yamakawa et al.: "Ultrahigh Rate Etching of SiO2 Film Employing Microwave Excited Non-equilibrium Atmospheric Pressure Plasma"Proc.of 16^<th> International Symposium on Plasma Chemistry. 832 (2003)
Y.Yamakawa et al.: "Ultrahigh Rate Etching of SiO2 Film Employing Microwave Excited Non-equilibrium Atmospheric Pressure Plasma"Proc.of 16^<th> International Symposium on Plasma Chemistry. 832 (2003)
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Y.Yamakawa等人：“利用微波激发非平衡大气压等离子体对SiO2薄膜进行超高速蚀刻”第16届国际等离子体化学研讨会论文集。
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