Growth and electrical properties of Al_2O_3 films grown by new CVD chemistry
Growth and electrical properties of Al_2O_3 films grown by new CVD chemistry
复制标题
新型CVD化学法生长的Al_2O_3薄膜的生长和电性能
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Shimogaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. He;C. M. Zhen;X. L. Wang;M. Oshima;Y. Shimogaki
