Plasma-assisted formation of oxide thin film at atmospheric pressure and unheated process
Plasma-assisted formation of oxide thin film at atmospheric pressure and unheated process
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常压、不加热过程中等离子体辅助形成氧化物薄膜
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroshi Akamatsu， Ko-ya Kuriyama， Shin-ichi Yamamoto， Kazunori Ichikawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高 義礼;高義礼，藤原修;高義礼，川又憲，石上忍，嶺岸茂樹，藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼，藤原修;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu and K. Ichikawa;Hiroshi Akamatsu， Shin-ichi Yamamoto，Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu，Shin-ichi Yamamoto，and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu， S. Yamamoto， K. Ichikawa;赤松 浩， 山本 伸一， 市川 和典;Ko-ya Kuriyama， Hiroshi Akamatsu， Shin-ichi Yamamoto， Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu， Ko-ya Kuriyama， Shin-ichi Yamamoto， Kazunori Ichikawa
