格子定数整合系GeSiSn/Ge n-RTDの作製
格子定数整合系GeSiSn/Ge n-RTDの作製
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晶格常数匹配的 GeSiSn/Ge n-RTD 的制造
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
須田良幸
中科院分区：
文献类型：
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作者：
羽田一暁;塚本貴広;広瀬信光，笠松章史，松井敏明;須田良幸
