IBF(Ion Beam Figuring)を用いた高精度 X 線ミラーの作製 シリコン表面の加工特性とビームの安定性の評価-
IBF(Ion Beam Figuring)を用いた高精度 X 線ミラーの作製 シリコン表面の加工特性とビームの安定性の評価-
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使用 IBF（离子束成形）制作高精度 X 射线镜 硅表面加工特性和光束稳定性评估 -
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
北村真一,松山智至,佐野泰久,山内和人
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Kim;H. Yokoyama;S. Matsuyama;Y.Sano;K. Yamauchi;北村真一,松山智至,佐野泰久,山内和人
