シリコン(001)微斜面でのステップパターン形成
シリコン(001)微斜面でのステップパターン形成
复制标题
硅 (001) 邻近表面上的台阶图案形成
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐藤正英
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Nakamura;M. Mine;M. Okumura;and Y. Yamanaka;佐藤正英
