水素フリーダイヤモンドライクカーボン膜の半導体性評価

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无氢类金刚石碳膜的半导体性能评价

DOI:
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发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
田上英人,柏木大幸,奥田浩史,角口公章,須田善行,滝川浩史,神谷雅男,瀧真,長谷川祐史,辻信広,石川剛史
田上英人,柏木大幸,奥田浩史,角口公章,須田善行,滝川浩史,神谷雅男,瀧真,長谷川祐史,辻信広,石川剛史
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Miya Amada;Naoya Miyamoto;Takehiro Enomoto;Norimasa Tanabe;Junichi Asama;Akira Chiba;Tadashi Fukao;Satoru Iwasaki;and Masatsugu Takemoto;田上英人,柏木大幸,奥田浩史,角口公章,須田善行,滝川浩史,神谷雅男,瀧真,長谷川祐史,辻信広,石川剛史

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