界面顕微光応答法による超高圧アニールn-GaNショットキー接触の二次元評価
界面顕微光応答法による超高圧アニールn-GaNショットキー接触の二次元評価
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使用界面微光响应方法二维评估超高压退火n-GaN肖特基接触
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
加地 徹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
今林 弘毅;塩島 謙次;加地 徹
