ベータ位修飾新規ヘキサフィリンの合成と物性
ベータ位修飾新規ヘキサフィリンの合成と物性
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新型β-修饰六菲林的合成及物理性质
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
東野智洋・大須賀篤弘
中科院分区：
文献类型：
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作者：
東野智洋;大須賀篤弘;東野智洋・大須賀篤弘
