Ferroelectric HfxZr1－xO2-based capacitors with controlled-oxidation surface of TiN bottom-electrode
Ferroelectric HfxZr1－xO2-based capacitors with controlled-oxidation surface of TiN bottom-electrode
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TiN底电极表面受控氧化的铁电HfxZr1－xO2基电容器
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Takashi Matsukawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takashi Onaya;Toshihide Nabatame;Yukinori Morita;Hiroyuki Ota;Shinji Migita;Koji Kita;Takahiro Nagata;Kazuhito Tsukagoshi;and Takashi Matsukawa
