Application of Novel Ultrasonic Cleaning Equipment Using Waveguide Mode for Single-Wafer Cleaning Process
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复制标题
新型波导模式超声波清洗设备在单晶圆清洗过程中的应用
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Koike
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Suzuki;Y.Imazeki;K.Han;S.Okano;J.Soejima;Y.Koike
