H_2 decomposition by hot wire and N_2 post-deposition treatment on hydrogenated microcrystalline silicon thin films
H_2 decomposition by hot wire and N_2 post-deposition treatment on hydrogenated microcrystalline silicon thin films
复制标题
氢化微晶硅薄膜的热丝分解H_2及N_2沉积后处理
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Kondo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Koji;A. Tabata;A. Kitagawa;A. Kondo
