H.Ogawa、T.Arai、Y.Feurprier、Y.Takamura、T.Ichiki and Y.Horiike: "In-situ Observation of Si Native Oxide Removal Employing Hot NH_3/NF_3"21st Symp.on Dry Process、Nov.11-12、Tokyo. 273-278 (1999)
H.Ogawa、T.Arai、Y.Feurprier、Y.Takamura、T.Ichiki and Y.Horiike: "In-situ Observation of Si Native Oxide Removal Employing Hot NH_3/NF_3"21st Symp.on Dry Process、Nov.11-12、Tokyo. 273-278 (1999)
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H.Okawa、T.Arai、Y.Feurprier、Y.Takamura、T.Ichiki 和 Y.Horiike：“采用热 NH_3/NF_3 去除硅自然氧化物的原位观察”第 21 届 Symp.on 干法，11 月 11 日-12，东京273-278（1999）
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