通電加熱表面融解相から成長させた突起状シリコンの強磁場印加による先鋭化
通電加熱表面融解相から成長させた突起状シリコンの強磁場印加による先鋭化
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通过施加强磁场锐化表面熔融相生长的硅突起
DOI:
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发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
富取正彦
中科院分区:
文献类型:
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作者:
西村高志;富取正彦