スプレーCVD法による無添加酸化スズ薄膜のライン形状基板への堆積
スプレーCVD法による無添加酸化スズ薄膜のライン形状基板への堆積
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喷雾CVD法在线形基底上沉积无添加剂氧化锡薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
澤田 豊
中科院分区：
文献类型：
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作者：
近藤剛史;舟窪 浩;秋山賢輔;遠田浩之;関 良之;王 美涵;内田孝幸;澤田 豊
