K.Okimura: "Deposition of High-Quality TiO_2 Films by RF Magnetron Sputtering with an Auxiliary Permanent Magnet" Jpn.J.Appl.Phys.36巻・7B号. 4917-4921 (1997)
K.Okimura: "Deposition of High-Quality TiO_2 Films by RF Magnetron Sputtering with an Auxiliary Permanent Magnet" Jpn.J.Appl.Phys.36巻・7B号. 4917-4921 (1997)
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K.Okimura：“通过辅助永磁体进行射频磁控溅射沉积高质量 TiO_2 薄膜”Jpn.J.Appl.Phys.Volume 36，Issue 7B (1997)。
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