MoS2ナノシートを用いた気相中アシストシリコンエッチング
MoS2ナノシートを用いた気相中アシストシリコンエッチング
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使用 MoS2 纳米片进行气相辅助硅蚀刻
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山本快知，窪田航，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Moritz Kindelmann;Ke Ran;Wolfgang Rheinheimer;Martin Bram;Koji Morita;Olivier Guillon;幸塚駿佑 ，○上田純平，田部勢津久，中西貴之，武田隆史，廣崎尚登;Kazuho Murata and Masaru Aniya;中山将伸;山本快知，窪田航，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
