Thick and Crack-free AlN Films by NH3 Nitridation of Sapphire Substrate
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蓝宝石衬底NH3氮化制备厚且无裂纹的AlN薄膜
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Funato and Y. Kawakami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. G. Banal;Y. Akashi;K. Matsuda;Y. Hayashi;M. Funato and Y. Kawakami
