Deep reactive ion etching of thermally co-evaporated Te-Ge films for IR integrated optics components
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DOI：
10.1016/j.mee.2010.10.008
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发表时间：
2011-03
影响因子：
2.3
通讯作者：
C. Vigreux;Séverine De Sousa;Véronique Foucan;E. Barthélémy;A. Pradel
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Vigreux;Séverine De Sousa;Véronique Foucan;E. Barthélémy;A. Pradel
