Effects of RF powers on the crystal quality and surface morphology of single crystalline ZnO films deposited by magnetron sputtering
Effects of RF powers on the crystal quality and surface morphology of single crystalline ZnO films deposited by magnetron sputtering
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射频功率对磁控溅射单晶ZnO薄膜晶体质量和表面形貌的影响
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N. Itagaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Mitsuishi;N. Yamashita;D. Takahashi;T. Okumura;K. Kamataki;K. Koga;M. Shiratani;N. Itagaki
