I.Watanabe,H.Matsumoto,R,Makara and K.Matsumoto: "Low‐Temperature Deposition of Diamond Films Using RF Plasma CVD" Proc.4th Int Cont.on New Diamond Science and Technology. 65-68 (1994)
I.Watanabe,H.Matsumoto,R,Makara and K.Matsumoto: "Low‐Temperature Deposition of Diamond Films Using RF Plasma CVD" Proc.4th Int Cont.on New Diamond Science and Technology. 65-68 (1994)
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I. Watanabe、H. Matsumoto、R、Makara 和 K. Matsumoto：“使用射频等离子体 CVD 进行金刚石薄膜的低温沉积”Proc.4th Int Cont（新金刚石科学与技术）（1994 年）。
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