パルスプラズマCVD法による炭素系薄膜合成に及ぼす化学種の分析
パルスプラズマCVD法による炭素系薄膜合成に及ぼす化学種の分析
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脉冲等离子体CVD法合成碳基薄膜的化学物质分析
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大竹尚登
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高島舞;望月佳彦;大竹尚登
