Radical Nitridation of Ultra-thin Gate Oxide on Silicon Carbide
Radical Nitridation of Ultra-thin Gate Oxide on Silicon Carbide
复制标题
碳化硅上超薄栅氧化层的自由基氮化
DOI：
--
复制
发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H.Yano
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
H.Yano;H.Yano;H.Yano
