Nobumitsu Hirose, Takashi Mimura*, and Toshiaki Matsui, SiGe Processes and Devices Using Sputter Epitaxy Method, Abs
Nobumitsu Hirose, Takashi Mimura*, and Toshiaki Matsui, SiGe Processes and Devices Using Sputter Epitaxy Method, Abs
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Nobumitsu Hirose、Takashi Mimura* 和 Toshiaki Matsui，使用溅射外延方法的 SiGe 工艺和器件，Abs
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akifumi Kasamatsu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshiyuki Suda;Takahiro Tsukamoto;Akifumi Kasamatsu
