フォトマスク転写法を用いた光インターコネクト向けポリマーV溝基板の作製
フォトマスク転写法を用いた光インターコネクト向けポリマーV溝基板の作製
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光掩模转移法制备光学互连用聚合物V型槽基板
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
三上修
中科院分区：
文献类型：
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作者：
榎本忠幸;三上修
