カソードルミネッセンス法による熱酸化 SiO2 /SiC 構造の評価
カソードルミネッセンス法による熱酸化 SiO2 /SiC 構造の評価
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阴极发光法评价热氧化SiO2/SiC结构
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
福島悠太，Furkan Alan，樋口直樹，Atthawut Chanthaphan，細井卓治，志村考功，渡部平司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
鄭彦宏;Chanthaphan Atthawut;許恒宇;楊謙;劉新宇;趙艷黎;李誠譫;細井卓治;志村考功;渡部平司;福島悠太，Furkan Alan，樋口直樹，Atthawut Chanthaphan，細井卓治，志村考功，渡部平司
