Wet Etching by KOH for InN Device Fabrication
Wet Etching by KOH for InN Device Fabrication
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用于 InN 器件制造的 KOH 湿法蚀刻
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Nanishi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A.Miki;K.Morimoto;N.Maeda;T.Yamaguchi;T.Araki;Y.Nanishi
