CHARGE TRANSPORT AND STORAGE IN METAL-NITRIDE-OXIDE-SILICON (MNOS) STRUCTURES
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DOI：
10.1063/1.1658181
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发表时间：
1969-01-01
影响因子：
3.2
通讯作者：
LENZLINGER, M
中科院分区：
文献类型：
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作者：
FROHMANB.D;LENZLINGER, M
