Fabrication of BaSi2 films by RF sputtering on a heated glass substrate with pre-deposition Si layer
Fabrication of BaSi2 films by RF sputtering on a heated glass substrate with pre-deposition Si layer
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在带有预沉积 Si 层的加热玻璃基板上通过射频溅射制备 BaSi2 薄膜
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Ｎｕｒｕｌ Ａｍａｌ Ａｂｄｕｌ Ｌａｔｉｆｆ
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Yamashita;Y. Yamada;K. Hashimoto;T. Sasaki;H. Okuzaki;C. Otani;末益 崇;Ｎｕｒｕｌ Ａｍａｌ Ａｂｄｕｌ Ｌａｔｉｆｆ
