Uniform wide-angle spray technique in a vacuum towards atomically precise dot deposition in ALD chamber
Uniform wide-angle spray technique in a vacuum towards atomically precise dot deposition in ALD chamber
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真空中的均匀广角喷涂技术可在 ALD 室中实现原子级精确的点沉积
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Norifusa Satoh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Q. Wang;R. Kitaura;S. Suzuki;Y. Miyauchi;K. Matsuda;Y. Yamamoto;S. Arai;H. Shinohara;今井正司・伊與田万実;Norifusa Satoh
