Ion-beam-assisted deposition of Si-carbide films
Ion-beam-assisted deposition of Si-carbide films
复制标题
离子束辅助沉积碳化硅薄膜
DOI：
10.1016/0040-6090(94)06465-2
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发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Colligon
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Zhigang He;S. Inoue;G. Carter;H. Kheyrandish;J. Colligon
