Ion beam implantation and thermal desorption of deuterium ions in graphite

Ion beam implantation and thermal desorption of deuterium ions in graphite
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石墨中氘离子的离子束注入和热脱附

DOI：
10.1016/0022-3115(90)90386-2
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发表时间：
1990
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Bienfait
M. Bienfait
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
G. Hansali;J. Bibérian;M. Bienfait

文献摘要

被引文献

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我们研究了热脱附1.6 keV氘离子注入三种不同的石墨样品。一种是热解的，另外两种是低密度石墨。我们测得的解吸活化能为0.9 eV的所有三个样品。注入率与注量曲线表明，吸附是本地化的缺陷，诱导热解石墨和自然的其他两个样品。
We have studied by thermal desorption the implantation of 1.6 keV deuterium ions in three different graphite samples. One is pyrolitic and the two others are low-density graphites. We have measured desorption activation energies of 0.9 eV for all three samples. Implantation rates versus fluence curves indicate that adsorption is localized in defects, induced for pyrolitic graphite and natural for the two other samples.