横山 春喜: "Effects of a Negative SelfーBias on the growth of Cubic Boron Nitride Prepared by Plasma chemical Vapor Reposition" Japanese Journal of Applied Physics. 30. 344-348 (1991)
横山 春喜: "Effects of a Negative SelfーBias on the growth of Cubic Boron Nitride Prepared by Plasma chemical Vapor Reposition" Japanese Journal of Applied Physics. 30. 344-348 (1991)
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Haruki Yokoyama：“负自偏压对等离子体化学气相再定位制备的立方氮化硼生长的影响”《日本应用物理学杂志》30. 344-348 (1991)。
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