細田直江,京極好孝,須賀唯知: "SiとALの常温接合におけるイオン及び活性原子照射による表面活性化の効果" Proc.1st Symp. "Microjoining and Assmbly Technology in Electronics". 79-82 (1995)

Naoe Hosoda、Yoshitaka Kyogoku、Yuichi Suga：“Si 和 AL 室温键合中离子和活性原子辐照的表面活化效应”Proc.1st Symp“电子学中的微连接和组装技术”79-82 (1995)。