高窒素濃度Hf-Si-Nの結晶構造および抵抗率

高窒素濃度Hf-Si-Nの結晶構造および抵抗率
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高氮浓度Hf-Si-N的晶体结构和电阻率

DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
財満鎭明
財満鎭明
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
宮本和明;近藤博基;坂下満男;財満鎭明

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