Rutherford Backscattering Spectrometry Analysis of Growth of Ti-Rich Layer Formed at Cu(Ti)/Low-k Interfaces
Rutherford Backscattering Spectrometry Analysis of Growth of Ti-Rich Layer Formed at Cu(Ti)/Low-k Interfaces
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Cu(Ti)/低 k 界面处形成的富钛层生长的卢瑟福背散射光谱分析
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
村上正紀
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小濱和之;伊藤和博;森健壹;前川和義;白井泰治;村上正紀
