高密度窒素プラズマ源を用いた 液体金属スパッタリング装置
高密度窒素プラズマ源を用いた 液体金属スパッタリング装置
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采用高密度氮等离子体源的液态金属溅射设备
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田原竜夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
本村大成;田原竜夫
