Y.Ueda: "Deposition of Large Srea Amorphous Silicon Films by ECR Plasma CVD" Vacuum Surface Engineering Surface Instrument & Vacuum Technology. 142(掲載予定). (1996)
Y.Ueda: "Deposition of Large Srea Amorphous Silicon Films by ECR Plasma CVD" Vacuum Surface Engineering Surface Instrument & Vacuum Technology. 142(掲載予定). (1996)
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Y.Ueda：“通过 ECR 等离子体 CVD 沉积大面积非晶硅薄膜”真空表面工程表面仪器和真空技术 142（待出版）。
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