Etching of CaF2 by Solid Source H 2O (ice) Plasma
Etching of CaF2 by Solid Source H 2O (ice) Plasma
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固体源H 2O（冰）等离子体蚀刻CaF2
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Fumio Koyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akihiro Matsutani;Hideo Ohtsuki;Fumio Koyama
